Produits

• Fonctionnalités
• Embarqué
• Système d'Information
• Démonstration
• Téléchargement
• Nouveautés

-  Nouveautés d'Obeo Designer 4.6

La version 4.6 d'Obeo Designer est maintenant disponible. Basée sur Eclipse 3.5 elle propose une prise en main facilitée, une meilleure intégration avec les systèmes de gestion de versions et des gains importants de performances.

Acceleo est désormais en version 2.7 : New and Noteworthy for Acceleo 2.7.

ATL est fournit en version 3.0, version développée au sein d'Eclipse : ATL 3.0 New and Noteworthy.

EMF Compare 1.0 , développé au sein d'Eclipse, est fournit dans Obeo Designer 4.6 : EMF Compare 1.0 New and Noteworthy.

Pour cette nouvelle version, Viewpoint a subit de nombreuses améliorations.

• Plate-forme - Désormais, la plate-forme de base est Eclipse 3.5 version aussi connue sous le nom de Galileo. Quelques cheatsheets ont été prévus pour un démarrage plus rapide.



• Gestion du Workspace
  

  - La synchronisation avec d'autres éditeurs Eclipse a été complètement revue pour atteindre une bien meilleure stabilité et permettre l'utilisation conjointe de Viewpoint avec d'autres éditeurs

  - Gestion de configuration : les outils sont maintenant entièrement compatible avec les SCM, comme Clearcase, en demandant l'autorisation pour éditer un fichier quand cela est nécessaire

  - Validation défensive : la demande d'autorisation pour éditer un fichier se fait au plus tôt, dès l'application du changement dans l'éditeur



• Outils - Vous pouvez désormais spécifier un assistant présentant un arbre d'éléments (ou une double liste) et l'exploiter au sein de vos outils personnalisés.


• Représentations

  - Support de l'action copier/coller pour les représentations

  - Les représentations startup : si une description de la représentation est paramétrée avec "startup = true", alors, au démarrage de la session toute représentation existante sera ouverte automatiquement

  - Auparavant un Semantic Candidate Expression vide voulait dire "Tous les descendants de l'élément courant", désormais cette expression fait référence à "Tous les éléments de la Session" pour faciliter la définition des mappings se trouvant en décorrélation avec la structure du modèle



• Performances

  - Meilleure montée en charge avec des diagrammes plus grands(jusqu'à 10 000 éléments dans un seul diagramme)

  - Meilleure montée en charge avec des modèles plus grands(des millions d'éléments)

• Spécification

  - Dans cette nouvelle version vous pouvez définir votre propre palette de couleurs

  

  - Un conteneur de type liste peut désormais avoir des ports

  - Un EdgeMapping peut avoir plusieurs mappings sources et cibles, évitant ainsi la duplication dans la spécification du diagramme

  

  - De plus, au moment de la définition du diagramme, vous pouvez aussi activer l'affichage de raccourcis pour les outils de création

  


• Gestion du positionnement - L'organisation automatique du diagramme et la gestion du positionnement ont été largement améliorés :

  - Il est possible de n'organiser qu'un conteneur et pas nécessairement tout le diagramme

  - Il est possible de copier/coller l'organisation des éléments depuis un diagramme vers un autre

  - Auto-pin on move : tout élément du diagramme déplacé par l'utilisateur ne sera plus déplacé par l'arrangement automatique

  - Personnalisation de l'organisation: vous pouvez également spécifier dans le modèle ".odesign" quel genre de positionnement vous préférez : de haut en bas ou de gauche à droite ; tout en précisant l'espace requis entre les nœuds



• Outils

  - Désormais, les outils peuvent être groupés et automatiquement fusionnés d'après le nom de leur groupe. De plus, vous avez à votre disposition des regroupements d'outils

  

  - Le glisser/déposer des ports a été rendu plus facile à exploiter

  - CTRL + Click est maintenant utilisable pour tous les outils. En utilisant ce combo, l'outil sera toujours activé après le click, il devient ainsi facile de créer de multiples nœuds ou liens

  - Appuyer sur ALT vous permet de bouger des formes dans un diagramme

  - Une nouvelle action "Open Definition" dans l'éditeur du diagramme déclenche l'ouverture de la spécification correspondant à l'élément sélectionné dans le diagramme

  
  

  - Vous pouvez aussi spécifier un assistant de sélection représentant les éléments de modèles sous forme d'arbre



• Calques

  - Vous pouvez surcharger un EdgeMapping existant depuis un autre calque

  - Un calque peut maintenant être actif par défaut en fonction des réglages d'un fichier ".odesign"

  - De nombreuses corrections sur le système de gestion des calques et des gains de performance importants ont été apportés

Diagramme de séquence - La spécification et l'exploitation d'un diagramme de séquence ont été améliorées, permettant une meilleure expérience pour l'utilisateur au moment de la spécification, ainsi qu'une meilleure utilisabilité et de meilleures performances pendant l'exploitation.

L'utilisateur peut désormais :

           redimensionner la hauteur des cellules

           utiliser le retour chariot au niveau du label de la cellule

           naviguer au clavier

           imprimer les tableaux

Archétype basé sur Viewpoint - Cette dernière release fournit un Archetype Viewpoint qui permet de créer des diagrammes Domain Neutral Components utilisant Ecore.
• Éléments externes - Vous pouvez, désormais, glisser&déposer toute "EClass" même si elle n'est pas dans l'"EPackage" courant.
  
• Perfectionnement de l'utilisabilité - La nouvelle version vous permet de reconnecter les "EReferences" d'une classe à une autre. La saisie de la signature des "EOperations" a aussi été améliorée.

Obeo Traceability est une version de maintenance contenant plusieurs corrections d'anomalies.

Obeo Requestor est une version de maintenance contenant plusieurs corrections d'anomalies.

La plate-forme entière a été mise à jour de Ganymede à Galileo : Eclipse Galileo Release SR2.